貝印が主催する「KAI Hat & Head-piece Competition 2025」最優秀賞を大倉小枝さんが受賞

貝印の「KAI Hat & Head-piece Competition 2025」で注目作が続出

2025年11月6日、渋谷のShibuya Sakura Stageにて、貝印株式会社主催の「KAI Hat & Head-piece Competition 2025」が行われ、大倉小枝さんの作品『流動』が最優秀賞に選ばれました。このコンペティションは4年目を迎え、今回は「越境」をテーマに、多くのデザイナーが挑戦しました。

コンペティション概要

このコンペティションは、貝印が40年以上の歴史を持つ裁縫ハサミの技術を通じて、帽子やヘッドピースのデザインを広めることを目的としています。審査員にはフランス国家最優秀職人章を持つ日爪ノブキ氏や、著名な履行社の栗原亮氏、ファッションデザイナーの田中文江氏、ヘアメイクアーティストの奈良裕也氏など、実力派が揃いました。

多彩な応募と選考プロセス

今年の競技には、14の国と地域から230%もの応募がありました。一次審査を通過した30作品の中から、最終的に入選、優秀賞、審査員特別賞、そして最優秀賞が発表されました。大倉小枝さんの写真が散りばめられた『流動』は、多くの観客を魅了し、晴れて最優秀賞に選ばれました。

また、審査員特別賞にはチェンシィー恵蒔ルイースさんの作品『開花』が選ばれ、若手デザイナーの才能が光りました。

受賞者の感想

受賞式では、大倉さんが「この作品ができるまで多くの方々に支えられたので、感謝の気持ちでいっぱいです。選ばれることが本当に嬉しい」と語りました。また、チェンシィーさんも「学生としてこの作品を制作するのは不安でしたが、満足のいく形に仕上げることができました」と述べました。

審査員からの高評価

審査員たちも受賞作品には高い評価を寄せました。特に日爪氏からは「シェイプラインの美しさに惹かれた。完成度が高く、感動した」と賛辞が送られ、奈良氏も「学生の作品とは思えないほどのクオリティ」と驚きの声を上げました.

最優秀賞の講評では田中氏が「見た瞬間から流動感が伝わり、360度どの角度から見ても美しい」と評価。鈴木氏は、「コンセプトがしっかりと具現化され、多くの人に受け入れられるべき作品だ」と語りました。

今後の展望

このコンペションはデザイン展「切れ味とやさしさ展」にも出展されます。作品は2025年11月7日から10日まで見られ、再び多くの人々の目に留まることでしょう。貝印株式会社の遠藤社長も「これからも本コンペティションを盛り上げていく」と熱い意気込みを示しました。

今後も貝印のコンペティションが多くの才能を発掘し、さらに広がりを見せることを期待します。