最先端半導体製造の革新：DNPが10nmナノインプリントテンプレートを開発

DNPが打ち出す新たな半導体製造技術

大日本印刷株式会社（DNP）は、半導体製造における最新のナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術を進化させ、回路線幅10nmのテンプレートを開発しました。この新しいテンプレートは、従来の技術に比べてコスト効率が良く、高度な環境配慮も実現しています。

先端半導体製造の需要

近年、スマートフォンやデータセンターなど様々なデバイスが高性能化しています。これに伴い、半導体の微細化が求められており、特にEUV（極端紫外線）リソグラフィによる生産が広がっています。しかし、EUV技術には高額なコストと大量の電力消費が伴うため、製造コストの削減と環境への配慮が課題となっていました。

DNPはこれを受け、2003年からナノインプリント法を基にしたテンプレートの開発を進めてきました。この技術により、製造プロセスを簡素化し、電力消費を抑制できる製品へと進化しています。

新たに開発したテンプレートの特徴

今回の10nmテンプレートは、NAND型フラッシュメモリだけでなく、最先端ロジック半導体の微細パターンにも対応可能です。以下は、その主な特徴です：

- ダブルパターニング技術：描画装置によって形成されたパターンに成膜・エッチングを施し、パターンの密度を2倍にすることで、更なる微細化を実現。
- フォトマスク技術の応用：DNPが長年培ってきたフォトマスク製造の技術を応用し、10nmのNILテンプレートを生産。
- 省エネルギー効果：従来の露光工程と比較して、電力消費量を約10分の1に抑えることができ、環境に優しい製造を推進。

今後の展望

DNPは今後も半導体市場のニーズに応じた製品の開発を進め、2027年に量産を開始することを目指しています。また、NIL用テンプレートの評価ワークも始めており、この分野での技術革新をリードすることを目指します。

さらに、2025年12月には東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan 2025」で新製品を展示し、業界に対して革新的な取り組みをアピールする予定です。DNPは2030年度にNILによる売上を40億円増加させることを目標に、技術の進化と市場ニーズに応える努力を続けていきます。