ALD技術を理解するためのオンラインセミナー開催決定！最新情報も学べるチャンス

株式会社AndTechは、今注目の「ALD（原子層堆積法）」に特化したオンラインセミナーを2025年11月25日に開催します。このセミナーでは、ALDの基礎から最新動向までを短時間で学ぶことができ、実務に役立つ知識を得ることができます。

セミナー概要

今回のオンラインセミナーは、特にR&D開発支援を目的に設計されており、第一線で活躍している専門家が講師を務めます。セミナーの詳細は以下の通りです：

- テーマ：ALD技術の最前線：基礎から最新動向まで【アーカイブ視聴可能】
- 日時：2025年11月25日(火) 10:30-16:30
- 参加費：49,500円（税込）
- 形式：ZoomによるWEB配信
- URL：詳細はこちら

このセミナーでは、ALDの基礎概念を学びつつ、実践的な内容に触れることができるため、技術者や研究者にとって非常に有益なプログラムとなっています。

ALD（原子層堆積法）とは？

ALDは、材料表面に原子層単位で薄膜を堆積する技術であり、微細加工や高性能デバイスの製造に広く利用されています。自身がキープするフィルムプロセスは、特に半導体産業において、その精度と均一性の高さが注目されています。例えば、ゲート絶縁膜や配線バリア層、コーティング等の製造において、ALD技術の利用が進んでいます。

ALDのプロセスは「供給」、「パージ」、「反応」、「再パージ」という要素から成り、この各工程は吸着や表面反応の速度論に影響されます。そのため、ALDの最適化には良好な体系理解が重要です。