半導体製造にプラズマ技術を活用！新WEBセミナー開催

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市）は、2025年6月20日（金）に「プラズマの特性と半導体製造への応用～成膜とエッチング入門～」というテーマのオンラインセミナーを開催します。このセミナーは、R&D開発支援の一環として、半導体デバイスの製造におけるプラズマ技術の基礎知識を提供します。

プラズマの基礎知識を学ぶ

このセミナーでは、プラズマの基本的な物理的特性およびその応用について、第一人者からの講義が行われます。半導体デバイス製造には、薄膜堆積やドライエッチングといったプロセスが不可欠であり、これらはプラズマに依存しています。プラズマといっても、非平衡プラズマと呼ばれる複雑な特性を持つものを理解することが大切で、その生成過程や物理的特性をしっかりと学んでいくことが求められます。

セミナーの内容

セミナーでは、前半部分でプラズマの特徴や生成機構を説明し、後半部分ではプラズマCVD（化学 vapor deposition）やドライエッチングの原理、装置の構造、さらには処理条件の最適化について詳しく解説します。具体的には、以下のトピックが扱われます。

1. プラズマの基礎
- プラズマ中の衝突現象
- 衝突反応の種類と速度定数
- Boltzmann方程式による分析
- プラズマ生成のメカニズム

2. プラズマCVD
- プラズマCVDの特徴と原理
- 新たな装置や製膜条件について

3. プラズマエッチング
- エッチング技術の基本
- 代表的なエッチング装置や課題

講師陣と参加方法

本セミナーでは、東京電機大学大学院の非常勤講師、市川幸美氏が講師を務めます。参加費は38,500円（税込）で、Zoomを使用したライブ配信形式で行われます。参加希望者は予約が必要であり、詳細な情報は公式サイトにて確認できます。

まとめ

AndTechは、化学、素材、エレクトロニクス、エネルギーなど多岐に渡る分野の研究開発を行うクライアントに向けて情報を提供しています。新しい知識を得たい技術者や専門家にとって、このセミナーは価値のある機会となるでしょう。受講者はプラズマが半導体製造でどのように活用され、如何にして理解を深められるかについて学ぶことができます。興味のある方は、ぜひご参加を検討してください！