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Patentixが第40回ネプコン展に初出展

Patentix株式会社（本社：滋賀県）は、2026年1月21日（水）から23日（金）までの3日間、東京ビッグサイトで開催される「第40回ネプコンジャパンパワーエレクトロニクス＆モジュールEXPO」と呼ばれる大規模な展示会に初めて参加します。この展示会は、アジア最大規模のエレクトロニクス機器関連のイベントであり、最新の電子部品や製造技術が一堂に会する場です。

近年、生成AIの普及に伴い、データセンターの電力消費が急増しています。これにより、インフラ設備も新たな問題に直面しています。たとえば、電源冷却用に大量の水を必要とするなど、従来には見られなかった課題が生じているのです。加えて、中国では新車販売の約半数以上が電気自動車（EV）となっており、電源の効率化が急務となっています。

今回の展示では、「次世代パワー半導体素材としてのルチル型二酸化ゲルマニウム」をテーマに、さまざまな素材との特性比較や、これまでの研究成果を紹介します。具体的には、ショットキーバリアダイオード（SBD）の動作確認や、最新の研究開発における高耐圧300Vでの静特性の説明も行います。また、今後の開発予定に関しても情報をお届けする予定です。

さらに、展示ブースでは近々発売を予定している小片基板サンプルの実物もお目見えします。これにより、ルチル型二酸化ゲルマニウムが持つ多様な可能性や優位性を、来場者の皆様に視覚的に感じてもらえる機会を提供します。

Patentixは、業界のパートナーや研究者を交え、今後の技術革新において一緒に課題解決に取り組んでいくことを目指しています。展示会にお越しの際は、ぜひ当社のブース（E36-58）を訪れていただき、次世代の電力効率化に向けた取り組みをご確認ください。

私たちは、技術革新に挑む中で、皆様との出会いを心より楽しみにしております。Patentixの未来に向けたステージに、ぜひご注目ください！

【お問合せ】
Patentix株式会社広報担当：樋口典子
E-mail: [email protected]
電話番号：077-599-1558

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