先端技術に迫る！AndTechの半導体洗浄技術セミナー開催

AndTechからの最新セミナー情報

さまざまな分野での研究開発を支える株式会社AndTechが、半導体洗浄技術に特化したZoomセミナーを2026年7月30日に開催します。このセミナーでは、半導体デバイスの微細化や3次元化、最新の接合技術が求められる中、洗浄技術の基礎から最前線までを学ぶことができます。

セミナー詳細

- テーマ: 半導体洗浄の基礎と3D集積・Wafer to Wafer接合に向けた先端洗浄・乾燥技術の課題と展望
- 日時: 2026年7月30日(木) 13:00-16:00
- 参加費: 38,500円（税込）
- 形式: Zoomによるライブ配信

参加者は、半導体洗浄に関する基礎知識や最新の技術動向、具体的な課題解決の手法を学べる貴重な機会となります。特にWafer to Wafer接合技術に関連した洗浄技術は、今後の半導体製造にとって重要な要素です。

何が学べるのか？

セミナーでは以下の内容について詳しく学びます。

- 半導体デバイスとウェット洗浄の必要性
- 最近の洗浄・乾燥の技術トレンド
- 次世代半導体の洗浄課題
- 最新の洗浄・乾燥技術
- Wafer to Wafer洗浄技術

特に、半導体デバイスのトレンドや、洗浄の必要性、最近の技術開発動向について細かく解説するプログラムが組まれています。また、ハンズオンセッションでは、アライアンス推進部先端プロセス開発課の福江紘幸氏が講師として登壇し、実際のプロセスや課題点について詳しく解説します。

AndTechについて

AndTechは、化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など多岐にわたる分野で研究開発支援サービスを展開しています。クライアントのニーズに応じた技術講習会やセミナー、コンサルティングサービスを提供し、専門的な支援を行っています。

今後も、進化を続ける半導体産業において、新たな知識や技術を学ぶ場を提供し続けるAndTech。興味のある方は、この機会にぜひ参加を検討してみてください。詳細は公式サイトに訪れることで確認できます。