プロの背景モデラーによるテクスチャ制作の極意を学ぶセミナー開催！

株式会社クリーク･アンド･リバー社（C&R社）は、6月20日（金）の19:30から21:00にかけて3DCGクリエイター向けの無料オンラインセミナー「ポリゴンナイト～良いテクスチャは、良いベイクから～」を開催します。今回は、C&R Creative Studiosの背景モデラーが直々に登壇し、ベイクの重要性を解説します。

ベイクとは何か？

ベイクは、リアルタイムで処理される情報、例えば光の当たり方や影、法線などを事前に計算し、それをテクスチャマップに保存する技術を指します。これにより、質の高いアセット制作が可能になるのです。最近では、Substance Painterなどのツールの普及により、プロシージャルにテクスチャを構築する手法が一般的になっていますが、ただ「なんとなく」ベイクを行うだけでは、高品質な結果は得られません。

このセミナーでは、経験豊富な3名の講師が、ベイクが引き起こす問題やその解決策、さらには設計の背景に潜む考え方まで深堀りします。これを機会に「なんとなくベイク」を卒業し、一段階上のアセット制作を目指してみませんか？

セミナー詳細

- 日程: 2025年6月20日（金） 19：30～21：00
- 場所: 株式会社クリーク･アンド･リバー社東京本社 5階コミュニケーションスペース

東京都港区新橋4-1-1 新虎通りCORE

- 料金: 一般1000円、学生無料（学生証提示）
- 定員: 100名
- 申込締切: 2025年6月19日（木）18:00

登壇者のプロフィール

1. 五十嵐鉄太
エンバイロメントセクション・ディレクター。C&R社にてキャリアをスタートし、幅広い経験を持つディレクター。
2. ボンダレンコ・ニコライ
ロシア出身の背景デザイナー。日本でのキャリアを経て、現在はコンシューマゲームのアセット制作を担う。
3. 山崎瑛美
新卒でC&R社に入社し、モバイルゲームや海外向けタイトルのアセット制作を担当している。

お申し込みとお問い合わせ

参加申し込みは、こちらのリンクから行えます。セミナーに関するお問い合わせは、C&R社の「ポリゴンナイト」担当（Email: [email protected]）までご連絡ください。

C&R社は、多様な業界のクリエイターを支援するために1990年より活動をしており、今後も「クリエイターの生涯価値の向上」を目指してさまざまな取り組みを続けていきます。最高のテクスチャとアセットを世に送り出すための第一歩として、ぜひこのセミナーをご利用ください。