堀場エステック、新棟の稼働で半導体研究開発が加速する京都福知山テクノロジーセンター

堀場エステックが新棟を本格稼働

株式会社堀場エステックは、京都市福知山にある「京都福知山テクノロジーセンター」の新棟を本格的に稼働させたことを発表しました。このセンターは2013年に設立され、初の研究開発専用施設として、半導体業界における技術革新に寄与しています。このたびの新設増棟によって、研究開発体制が一層強化されることが期待されています。

新棟の主なポイント

新棟がもたらす大きな変化の一つは、気体流量校正設備と液体気化実験設備がそれぞれ二倍に拡張されることです。これにより、従来以上に幅広い測定域での実験や校正を行うことができるようになります。特に、最先端の半導体プロセスで要求される新素材への対応が強化されることが大きな利点です。

また、新棟にはエンジニアリング室が新設され、その施設ではHORIBAグループが持つデータマネジメント技術を駆使したデジタルツインモデルの構築が進められます。この技術は、マスフローコントローラー（MFC）における高機能化や開発の加速に寄与する役割を果たします。

半導体事業のさらなる成長をサポート

さらに、隣接地には2026年春に稼働予定の京都福知山工場が建設されています。この工場との連携によって、新棟で開発された先端技術がスムーズに製品化され、半導体事業のさらなる成長を実現するための重要なシナジー効果が期待されます。

環境に優しい半導体製造プロセスへの挑戦

堀場エステックでは、半導体製造プロセスにおける温室効果ガスの使用についても取り組んでいます。記載されているSF₆（六フッ化硫黄）などの温室効果ガスを扱うため、除害設備によるガスの無害化に力を入れています。今後は、このより高性能な計測装置を独自に開発することで、環境負荷を低減する新たなビジネス機会の創出を目指しています。

研究開発環境の改善と快適な職場づくり

新棟は外観だけでなく、内部のデザインにもこだわりが見られます。開放感のある吹き抜けや高い採光性のあるテラスなど、働く環境に配慮した設計が施されています。多目的に利用できるカフェテリアも併設され、社員が快適に働くための環境が整えられています。また、ラボスペースの新設により、産学官や企業間の連携も促進され、新たなイノベーションの創出に寄与することが期待されています。

地域への貢献と人材育成

最終的に、これらの取り組みは地域社会への貢献にもつながります。新しい研究開発施設と工場の立ち上げにより、地域の雇用創出と人材の定着が見込まれます。堀場エステックは、2025年末までに35名の従業員を計画しており、2028年には70名の体制を目指して段階的な拡充を進めています。

このように、堀場エステックは半導体技術の進化と環境への配慮を両立しながら、今後も持続的な成長を追求していく方針です。