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2025年12月19日開催のWebセミナーについて

株式会社AndTechが、2025年12月19日（金）にオンラインで開催する「プラズマの特性と半導体製造応用技術 ～成膜とドライエッチング入門～」の詳細情報が明らかになりました。このセミナーは、半導体デバイスの製造に欠かせないプラズマの理解を深めることを目的としています。

セミナーの概要

本セミナーでは、プラズマの基礎知識やその特徴について第一人者から学ぶことができます。参加者は、薄膜堆積技術やドライエッチングの原理、プラズマCVD（化学気相成長法）などについて、知識を得ることができます。特に、半導体製造におけるプラズマの役割や、それを効果的に利用するための原理について詳しく解説されます。

開催日・時間

• - 日付: 2025年12月19日（金）
• - 時間: 13:00 - 16:00
• - 費用: 38,500円（税込）
• - 形式: ZoomによるWEB配信

参加者は、申し込み後に提供されるURLを通じてセミナーに参加します。セミナーでは、電子資料が配布される予定です。

プログラムの内容

このセミナーのプログラムは以下のような内容で構成されています：

1. プラズマの基礎
- プラズマ中の衝突現象の定量的な取り扱い
- 衝突反応の種類の理解と反応速度定数の考え方
- プラズマ生成のメカニズム（直流放電プラズマ、容量性結合RF放電プラズマなど）

2. プラズマCVD
- アモルファスSi薄膜を中心にした特徴と原理
- プラズマCVD装置の例
- 堆積条件の最適化

3. プラズマエッチング
- エッチングの原理（等方性、異方性）
- エッチング装置の紹介
- エッチングダメージの授業

講師紹介

本セミナーの講師としては、東京電機大学大学院の非常勤講師である市川幸美氏が登壇します。彼の専門知識に基づいた講義により、参加者はプラズマ技術について、より深く理解できる機会となります。

AndTechについて

株式会社AndTechは、研究開発支援を専門に行う企業で、化学、素材、エレクトロニクス、自動車など多岐にわたる分野のクライアントに情報を提供しています。技術講習会やセミナーに加え、コンサルティングサービスも展開しており、クライアントのニーズに応じた支援を行っています。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは、株式会社AndTechの広報担当青木までご連絡ください。メールアドレスはpr●andtech.co.jp（●を@に変更）です。

新たな知識を身につける貴重な機会となるこのセミナーへ、皆様のご参加をお待ちしています。

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