分光エリプソメトリーを徹底解析するセミナー開催のご案内

分光エリプソメトリーを徹底解析するセミナー

分光エリプソメトリーは、薄膜の膜厚や光学特性を高精度に非接触で評価する手法であり、半導体や光学材料など幅広い分野で応用されます。しかし、正確な解析には専門的な知識が求められるため、多くの技術者がその利用を限定的にしています。そこで、アイアール技術者教育研究所がオンラインセミナーを開催します。これにより、基礎から実務まで幅広い知識を効率よく学ぶことが可能です。

セミナー概要

- セミナー名: 分光エリプソメトリー徹底解説講座
- 開催形式: Zoomによるオンライン受講
- 開催日時: 2026年10月23日（金）10:00～16:00
- 受講料: 49,500円（税込）/名（複数名受講割引有）
- 講師: 田所利康（有限会社テクノ・シナジー代表取締役）

講座で学べること

本講座では、分光エリプソメトリーの基礎的な概念から、測定原理、解析方法、実際の応用事例までを体系的に解説します。ここでは、以下の内容を重点的に学びます：
1. 光物性の基礎 - 偏光や干渉の理解を深めます。
2. 測定パラメーター - 測定における重要なポイントを理解します。
3. 誘電関数モデル - 光学特性との関連性を学びます。
4. 実践的なフィッティング解析 - 具体的な事例を用いて効果的な方法を身につけます。

セミナープログラム

1. イントロダクション
1.1 本講座の目的
1.2 薄膜解析と分光エリプソメトリー
1.3 分光エリプソメトリーの特徴と用途
2. 物質と光の相互作用
2.1 分極と屈折率
2.2 なぜ分光なのか（分極と分光スペクトル）
2.3 偏光、光の反射、透過、屈折
2.4 薄膜の干渉
3. 分光エリプソメトリー
3.1 エリプソメトリーの測定原
3.2 偏光解析パラメーターの表記法
3.3 単一波長から分光へ
3.4 エリプソメーター
3.5 誘電関数モデルと屈折率スペクトルの関係
3.6 分光エリプソメトリー解析の流れ
4. 測定の実際と解析上のポイント
4.1 透明基板上の薄膜解析
4.2 半導体基板上の薄膜解析
4.3 高度な解析例
5. まとめ
質疑応答

対象者

本セミナーは以下のような方に最適です：

- 分光エリプソメトリーを初めて学びたい方
- ホームワークや授業の一環で分光エリプソメトリーを利用したい方
- 現状のモデリングや解析を改善したい方
- 新たな技術を活用したい方

詳しい情報とお申し込みは、こちらからご覧いただけます。

アイアール技術者教育研究所は、製造業向けに特化した技術者教育を提供し、現場で役立つ少人数制の授業を行っています。公式ウェブサイトやお問い合わせもぜひご活用ください。

会社情報

- 日本アイアール株式会社

50年以上の実績を持ち、特許・知財ソリューションの提供の他、製造業向けの教育サービスや技術情報の収集分析を行っています。
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