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最新のウェハ測定技術、WooptixがPhemet®を発表

半導体業界に新たな革新をもたらすWooptixが、業界高水準の速度と精度を誇る新しい計測システム「Phemet®」を発表しました。これにより、ユーザーはサブ・ナノメートル分解能でウェハの形状や幾何特性を超高速で測定することが可能となります。この製品は、11月18日から21日にかけてミュンヘンで開催されるSEMICON Europaで展示されます（ブースB1679）。

WooptixのCEOであるJosé Manuel Ramos氏は、「現在の半導体業界では、高性能化と小型化が進展しており、量産ラインでのプロセス制御性が求められています。Phemet®は、このニーズにしっかりと応える製品です」と説明ています。また、Phemet®は、単一の画像から1,600万点以上のデータを瞬時に収集し、ハイブリッド・ボンディングや3D NAND、高帯域幅メモリなどの高効率なインライン測定に特異な効果を発揮します。

このシステムは完全自動化されており、シリコンウェハ全体を一度の撮影で捉えることができます。形状、ナノトポグラフィ、反り、歪みなど、必要に応じた測定が可能です。また、「Phemet®」は、ノイズを抑え、振動にも耐性を持つため、非常に高精度な測定が実現されています。ファブや歩留まり担当のエンジニアにとっては、このシステムが生データを提供し、問題の発見や歩留まり向上に貢献できる強力なツールとなるでしょう。

Phemet®が採用しているのは、Wooptix独自の波面位相イメージング技術であるWFPI（Wavefront Phase Imaging）です。この技術により、ウェハの光分布が効率的に取得でき、独自アルゴリズムに基づく位相マップが生成されます。その結果、ウェハのトポグラフィや反りの情報が、サブ・ナノメートルの精度で迅速に得られるのです。解像度は4700×4700ピクセルに達し、超高精細な計測を実現しています。

TechInsights社の半導体市場分析担当ゼネラル・マネージャーであるRisto Puhakka氏も、「微細構造や3D統合が進むなか、ウェハの形状と平坦性を正確に測定することの重要性が増しています。新たな計測手法が求められる中、Phemet®のように速さと精度を兼ね備えた技術が期待されています」とコメントしています。

Phemet®はすでにメモリとロジック分野の主要顧客と協力してテストを行っており、早ければ近日中にいくつかのクライアントへの出荷が予定されています。これにより、大量生産に向けた新たな道が開かれることが期待されています。

Wooptixは、Samsung Venture Investment CorporationやIntel Capital、TEL Venture Capitalなどから3,500万ドル以上の資金を調達しております。Phemet®のデモは2025年11月より展開される予定です。詳しい情報はWooptixの公式ホームページ、またはYouTubeチャンネルで確認できます。

Wooptixについて

Wooptixは、天文学の補償光学研究から派生した波面位相イメージング技術（WFPI）を用いた半導体計測分野で最先端を行っている企業です。インライン計測向けの卓越した技術を有し、半導体業界に革新をもたらしてきました。すでに世界各国の顧客にサービスを提供し、成功を収めた実績があります。Wooptixの拠点はスペインのテネリフェとマドリード、アメリカのサンフランシスコに存在します。詳細については公式ウェブサイトをご覧ください。

Phemet®はWooptixの登録商標です。

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サードペディア百科事典: 半導体 Wooptix Phemet®

Wiki3: 半導体 Wooptix Phemet®