KLAの新型X線計測システムが半導体製造のプロセスを加速する

KLAが新型のX線計測システムAxion T2000を発売

KLAはこのたび、先進的なX線計測システム「Axion T2000」を発表しました。この革新的なシステムは、メモリー半導体デバイスの製造過程における微細構造の変動を高精度で測定し、その機能や性能の向上に寄与します。特に、3D NANDやDRAMといった最先端技術の製造ラインにおいて、重要な役割を果たすと期待されています。

KLAのセミコンダクタープロセス制御ビジネスユニットの社長、Ahmad Khan氏は、Axion T2000が「インラインプロセス制御におけるゲームチェンジャー」であると強調します。このシステムは、100対1以上の高いアスペクト比を持つ構造を正確に可視化し、重要なパラメーターを迅速に測定します。具体的には、メモリーチップの製造時における歩留まりや信頼性に関連する問題を短時間で改善することが可能になります。

Axion T2000は、業界内でも独自のX線技術を採用したCD-SAXS（小角X線散乱CD計測）システムであり、高い解像度でメモリーデバイスの構造を測定できます。高フラックスのX線がメモリーの縦構造全体を透過することにより、複雑なデバイス形状を短時間で測定することが実現されています。このシステムのダイナミックレンジは広範囲にわたり、多数の入射角からの回析像を取得できますので、情報量の豊富な3D形状に変換することができます。

さらに、Axion T2000には最新のAcuShape®アルゴリズムが搭載されており、重要なデバイスパラメーターの計測を精密に行えます。これにより、メモリーチップの機能に影響を与える微細な変動を把握しやすくなるのです。これらの革新的な技術は、メモリー製造のプロタイミングを最適化し、必要なデータを迅速に提供します。

現在、Axion T2000は多くのメモリーメーカーで運用されています。KLAの計測システム群は、3D NANDやDRAMの生産において高い精度を実現しており、Axion T2000が新たにその仲間に加わりました。KLAの包括的なメトロロジー（計測）ポートフォリオは、研究開発の初期段階から量産にいたるまで、様々なアプリケーションをカバーしています。これにより、デバイスの迅速な立ち上げ、品質改善、歩留まり向上が促進されるのです。

加えて、Axion T2000はKLAのグローバル包括サービスネットワークによってしっかりとサポートされています。高い性能と生産性を維持しつつ、ユーザーにとって安心できる環境を提供しています。新しいAxion T2000 X線計測システムの詳細については、KLAの公式サイトやニュースルームで確認できます。

KLAについて

KLA Corporationは、業界最先端の装置とサービスを提供し、エレクトロニクス業界全体のイノベーションを促進しています。同社は、ウェハー、集積回路、フラットパネルディスプレイなどさまざまな製品のための高度なプロセス制御ソリューションを提供し、世界中の大手顧客と行動しています。KLAでは、物理学者やエンジニア、データサイエンティストからなる専門家チームが協力し、最先端のソリューションを設計しています。

KLAはまた、投資家向けに重要な財務情報を提供するため、さまざまなチャネルを通じて情報発信を行っています。新技術の採用にはリスクが伴うこともありますが、KLAは継続的な革新を通じて、成長を目指していく所存です。