サン工業が目指す次世代のめっき技術
サン工業株式会社は、2026年1月21日から東京ビッグサイトで開催される「第40回 ネプコン ジャパン」に出展します。今回の展示では、EV(電気自動車)やAIデータセンター向け半導体製造に特化した新技術を紹介し、製造コストを大幅に削減する取り組みを発表します。
高まる電力効率とコスト削減のニーズ
昨今のAI技術の進化とEV市場の拡大により、電子部品は「電力効率」と「高信頼性」を求められています。特に、SiC(炭化ケイ素)などの次世代パワー半導体は高温動作が必須であるため、温度による劣化や材料費の高騰が大きな課題とされています。サン工業は、その長年のめっき技術を活かし、これらの課題を解決するソリューションを提供します。
主な展示技術
部分銀めっきプロセス
- - 技術名:スパージャー方式 新部分銀めっきプロセス
- - 課題:EVのパワー半導体において、接合には高価な「銀」が必須ですが、銀の価格上昇が製造コストを押し上げています。
- - 解決策:独自に開発したスパージャー方式を用いて、必要な部分だけに銀めっきを施します。
- - 効果:従来の手法と比べて、銀使用量と製造コストを約50%削減することに成功し、SiC半導体の普及を助けます。
UMBめっき
- - 技術名:Ultimate Matt Black(UMB)めっき
- - 課題:半導体製造装置スタイルでの光の乱反射は、センサーと加工精度に悪影響を与えます。
- - 解決策:独自の技術で可視光全域の反射率を0.5%未満に抑えた艶消し黒を実現。
- - 効果:光学機器の精度を向上させるだけでなく、900℃に耐える耐熱性も兼ね備え、高温環境下での使用が可能です。
耐フッ酸めっき
- - 技術名:耐フッ酸めっき
- - 課題:フッ酸は強力な酸で、半導体製造装置の部品寿命を短くさせます。
- - 解決策:新しい無電解めっき技術を開発し、フッ酸に耐える高い耐食性と高硬度を実現。
- - 効果:製造装置の寿命を延ばし、メンテナンス負担を軽減します。
開催概要
- - 展示会名:第40回 ネプコン ジャパン(エレクトロニクス開発・実装展)
- - 会期:2026年1月21日(水)〜23日(金) 10:00〜17:00
- - 会場:東京ビッグサイト
- - 出展ブース:東展示棟 E30-56
サン工業株式会社について
1949年に設立されたサン工業は、半導体、自動車、産業機械向けの表面処理技術を開発・提供しています。40ラインのめっき設備を有し、ISO 9001・IATF 16949の認証を保持しています。これまで、多くの賞を受賞し、日本のものづくりを支えてきました。詳細は
公式サイトをご覧ください。
お問い合わせ
本件に関するお問い合わせは、サン工業株式会社 営業課(河合)まで。