ニューフレアテクノロジーが参加したフォトマスク技術会議の詳細

ニューフレアテクノロジーがSPIE Photomask Technologyに参加

2025年9月22日から25日の間、アメリカ・カリフォルニア州モントレーで開催された「SPIE Photomask Technology」に、株式会社ニューフレアテクノロジー（NFT）が参加しました。これは光学やフォトニクスに関連する国際会議で、毎年多くの専門家が集まる重要なイベントです。

SPIE Photomask Technologyとは？

この会議は、国際光工学会（SPIE）が主催するもので、フォトマスクやパターニング、計測技術といった様々なテーマが議論されます。今年も多くの革新的な技術や研究成果が発表され、業界のトレンドを把握する貴重な機会となりました。特に、High-NA EUVリソグラフィーに関する内容は注目を集めています。

NFTの発表内容

ニューフレアテクノロジーは、この会議において毎年発表を行っており、今年も新しい技術の進捗を示しました。

口頭発表

- セッション: Paper 13687-1
- タイトル: MBM-4000 multi-beam mask writer enabling mask fabrication for a new era
- 著者: Kenichi Yasuiほか、ニューフレアテクノロジー
- 発表者: Kenichi Yasui

この発表では、次世代のマスク製造を実現するためのマルチ電子ビームマスク描画装置、MBM-4000の開発状況について報告されました。次世代半導体製造に向けた重要な技術が論じられ、参加者の関心を引きました。

ポスター発表

- ポスターセッション: Paper 13687-113
- タイトル: Electron multibeam mask writer for mature nodes: MBM-2000C
- 著者: Issei Aibaraほか、ニューフレアテクノロジー
- 発表者: Issei Aibara

こちらの発表では、成熟した技術ノード向けのマスク描画装置、MBM-2000Cに関して詳しく説明されました。これにより、過去の技術を土台にした新たな進展が示されました。

会議の意義

参加者は、各発表を通じて最新技術の理解を深め、業界の未來を見据えるための貴重な情報を得ることができました。特にNFTのような最前線の企業が行う研究は、半導体業界全体の発展に寄与しており、大いに期待されています。

このような国際会議は技術者同士の交流の場としても重要であり、知識や技術の共有が進むことで、さらなる革新が期待されます。NFTは今後もこうした会議に参加し、業界の発展に寄与することでしょう。