株式会社エアメンブレン、グラフェンEUVペリクルの量産化に向けた大規模資金調達を実施

エアメンブレンが挑む次世代半導体市場

株式会社エアメンブレン（以下、エアメンブレン）は、次世代半導体露光装置向けの「グラフェンEUVペリクル」の量産化に向け、約8.5億円の資金を調達したことを発表しました。この資金調達により、同社の累計調達額は約10億円に達しました。調達資金は、世界初となるEUVペリクルの「量産体制の構築」に充てられ、特にAIや自動運転の進化を支えるための先端半導体の製造に密接に関係しています。

資金調達の背景

半導体製造に必要な「EUV（極端紫外線）露光技術」は、微細化が進む中で特に重要な技術です。このプロセスで直面するのはフォトマスクへの異物付着であり、その解決に寄与するのがEUVペリクルです。しかし、このペリクルは厚さや耐熱性、化学的安定性を同時に保つ必要があるため、非常に高い性能が求められます。これまで、すべての要件を満たす製品は限られていましたが、エアメンブレンは独自の技術でこれを実現しようとしています。

エアメンブレンの技術力

エアメンブレンは、国立研究開発法人産業技術総合研究所（産総研）で培った連続合成・自動転写技術を駆使し、グラフェンを高品質のまま量産化することに成功しています。この技術により、従来の100倍以上の合成速度を実現し、微細な欠陥を排除することが可能になりました。この特徴が、グラフェンを利用したEUVペリクルの量産において大きなアドバンテージとなります。

未来のロードマップ

今回の資金調達を受けて、エアメンブレンは2027年にパイロット生産を開始し、2028年には量産ラインを立ち上げる予定です。このために、材料化学や薄膜プロセス、精密機械工学などさまざまな分野からエンジニアを採用し、事業体制の強化を図っています。また、グローバル市場への展開も視野に入れており、ビジネス人材の採用も加速しています。

求められる人材と技術的課題

エアメンブレンは「世界初の量産ライン」を築くため、新しいエンジニアを募集しています。主な職務は、新しい量産プロセスの設計や高品質薄膜の製造、インラインでの検査技術の確立など、多岐にわたります。これらの技術的課題を乗り越え、グローバル市場での競争力を高めるために、エンジニアリングおよび経営管理の専門家が必要です。

代表者の意気込み

同社の代表取締役社長である長谷川雅考氏は、日本発のディープテックが半導体産業の課題を解消することを目指しています。グラフェンEUVペリクルの量産化は、世界で誰も成し遂げていない挑戦であり、その成功には事業の成長と技術革新が欠かせません。長谷川氏は、このプロジェクトに共感し参加する仲間を心から歓迎する意向を示しました。

投資家の期待

資金提供を行ったグローバル・ブレイン株式会社などの投資家も、エアメンブレンの技術力に期待を寄せています。次世代EUV露光プロセスの鍵を握るとされるグラフェンEUVペリクル開発は、産業界全体において重要な任務と認識されています。

エアメンブレンが自らの革新技術をもとに、世界の半導体エコシステムの中核となることが期待されています。今後の進展から目が離せません。