ヌヴォトン、先端半導体パッケージ向け新しい露光用光源を導入

ヌヴォトンが新たな光源を発表

ヌヴォンテクノロジーは、最新の光源である「高出力4.5W 紫色（402nm）半導体レーザ」の量産を開始しました。これは、マスクレス露光用途やその他の光学装置において、生産スループットを向上させるために設計されています。

新製品の特長

新製品は、それまでの製品に比べ光出力が1.5倍に増強されており、特に先端半導体パッケージ分野において重要な役割を果たすことが期待されています。この高出力の紫色レーザは、従来のモデルよりも効率的に光を放出するための独自のデバイス構造や放熱設計技術を採用しています。この新技術により、信頼性が大幅に向上し、高品質が求められる産業用途での生産性も向上します。

マスクレス露光の重要性

マスクレス露光技術は、設計データに基づいて直接基板上にパターンを描く技術で、コスト削減や開発期間の短縮を実現します。特に、反りや歪みに対応できる高精度な描画補正が可能となるため、この技術が注目されています。さらに、ヌヴォトンはi線（365nm）およびh線（405nm）との連携にも対応しており、多様な感光材料に対応できる環境をすでに整えています。

水銀灯の代替と新たな選択肢

ヌヴォトンの新製品はまた、環境面からも注目されています。水銀灯の代替ソリューションとして、幅広い用途での使用が可能なため、新たな光源選びの選択肢を顧客に提供します。特に光硬化や3Dプリンティング、バイオメディカル、マーキングなどの分野では高効率なプロセスが実現し、様々な新アプリケーションの開発にも寄与することが期待されます。