ナノインプリント・リソグラフィに関する書籍が発刊、半導体微細加工技術の未来を探る

ナノインプリント・リソグラフィに関する書籍が発刊

株式会社AndTechは、2025年3月31日に新たな技術書籍『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望』を発刊することを発表しました。この書籍は、ナノインプリント・リソグラフィについて、第一人者の執筆陣によって執筆されており、特に半導体微細加工技術の未来への期待を込めた内容になっています。価格は55,000円です。

技術書籍の主な内容

この書籍では、ナノインプリント・リソグラフィのメカニズムや、半導体微細加工技術の実用化に向けた取り組みが詳述されています。また、ナノインプリント・リソグラフィにおける離型性課題の評価と対策も紹介されており、現実の技術的な課題へのアプローチが行われています。書籍の中では、ナノインプリント・リソグラフィの国内外の動向や、今後の展望についても包括的に触れられています。

執筆陣とその専門性

書籍の執筆者には、大阪公立大学の平井義彦客員教授をはじめ、東京理科大学の谷口淳教授、国立研究開発法人産業技術総合研究所の鈴木健太主任研究員など、各分野での専門家が参加しています。彼らの豊富な知識と経験が、技術書籍の内容に深みを与えています。

ナノインプリント・リソグラフィの可能性

特に注目すべきは、ナノインプリント・リソグラフィの背後にある技術的なメカニズムです。本書には、ナノインプリントによる高解像度のパターン形成を可能にするメカニズムや、半導体集積回路への応用に向けた具体的な取り組みが記されています。これにより、この技術が今後、どのように進化し、半導体業界に寄与するのかが探求されています。