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東京電機大学の革新技術フォーラム

東京電機大学（以下、電機大）は、2025年1月27日（月）に東京千住キャンパスにて「令和6年度 第2回CRCフォーラム」を開催します。当イベントは、真空成膜や表面技術に関心のある企業や学生を対象にしており、定員は200名を予定しています。

フォーラムの概要

本フォーラムは、真空技術を利用した薄膜の形成に関する内容となっており、基調講演と研究発表が行われます。薄膜技術には「Wet技術」と「Dry技術」があり、それぞれ異なる方法で薄膜を作成します。特に真空蒸着やスパッタリング、イオンプレーティングなどのDry技術は高機能な薄膜の形成に重要な役割を果たしています。

開催日と場所

• - 日時: 2025年1月27日（月）13:30-18:00
• - 会場: 電機大 東京千住キャンパス 1号館2階 丹羽ホール

（東京都足立区千住旭町5番、北千住駅東口から徒歩1分）

プログラム内容

基調講演

• - 講演者: 工学部 電気電子工学科 教授 平栗 健二
• - テーマ: 真空技術による機能性薄膜創製と応用
• - 発表時間: 40分 + 質疑応答

研究発表

• - 「高周波プラズマを用いた薄膜作製と表面改質」

発表者: 工学部 情報通信工学科 教授 本橋 光也
発表時間: 30分 + 質疑応答

• - 「スパッタ技術を用いた化合物半導体単結晶層の成長とその評価」

発表者: 工学部 電子システム工学科 教授 篠田 宏之
発表時間: 30分 + 質疑応答

• - 「表面合金化による水素吸収速度の促進」

発表者: 工学部 自然科学系列 教授 小倉 正平
発表時間: 30分 + 質疑応答

• - 「細胞親和性を高めるDLC（diamond-like carbon）コーティング」

発表者: 理工学部 理工学科 電子情報・生体医工学系 教授 大越 康晴
発表時間: 30分 + 質疑応答

• - 「炭素材料を利用した水素ガスセンサーの開発」

発表者: 工学部 電気電子工学科 准教授 金杉 和弥
発表時間: 30分 + 質疑応答

参加について

フォーラムは無料ですが、事前の申し込みが必要です。申し込みは以下のURLから行えます:
申し込みリンク
申し込み締め切りは2025年1月24日（金）12:00です。参加希望の方はお早めにお申し込みください。

お問い合わせ

参加に関する質問や詳細は、東京電機大学 研究推進社会連携センター 研究推進担当までご連絡ください。

• - 電話: 03-5284-5230
• - E-mail: [email protected]

CRCフォーラムについて

CRCフォーラムは、東京電機大学が主催し、最先端技術の研究成果を交流する場として位置付けています。このフォーラムは毎年定期的に実施され、研究者同士の連携を促進し、新たな技術革新を生むきっかけとしています。興味のある方はぜひご参加ください。

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