神奈川の技術展示会で進化する半導体製造技術の最前線

Photomask Japan 2025 Technical Exhibitionにおけるニューフレアテクノロジーの出展

2025年4月17日と18日、神奈川県横浜市のパシフィコ横浜アネックスホールにて開催される「Photomask Japan 2025 Technical Exhibition」に、ニューフレアテクノロジー（NFT）が出展します。この展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2025」と同時に開催され、業界の最前線における革新技術を紹介します。

出展製品と技術の詳細

今回NFTが展示する主な製品には、2nmノード世代の半導体製造に特化したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-3000」と、最先端のフォトマスクに対する高精度検査を実現する「NPI-8000」があります。

1. MBM™-3000

この装置は、マルチ電子ビーム技術を駆使しており、高度なマスク描画を可能にします。複雑な設計を迅速に処理し、効率的な生産ラインを実現します。今後の半導体市場において、要求される精度とスピードを兼ね備えています。

2. NPI-8000

一方、NPI-8000は最新の光学技術を使用しフォトマスクの欠陥を高精度で検査します。これにより、製品の品質向上を図り、次世代の半導体デバイスの安定した供給をサポートします。

技術シナジーの推進

NFTは、電子ビームマスク描画装置と光学技術の双方において確固たる技術基盤を持ち、今後も革新的な技術の研究開発を続けていく考えです。両技術の相乗効果で、更なる進化を遂げることを目指しています。

展示会の詳細

- 開催日程: 2025年4月17日(木) 10:00～17:00、18日(金) 10:00～16:00
- 会場: パシフィコ横浜アネックスホール Booth No.3

この機会に、最新技術を体験し、NFTの挑戦をぜひご覧ください。業界の専門家や技術者だけでなく、広く一般の方々にも関心を持っていただける内容となっています。

参加方法

参加を希望される方は、事前に関連サイト「Photomask Japan 2025 | Technical Exhibition」を確認し、情報を得ることをお勧めします。最先端の技術に触れ、その発展の一端を目の当たりにするチャンスです。

この展示会での経験が、今後の半導体業界に対する理解を深める良い機会になることを願っています。

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