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日本曹達、半導体フォトレジスト材料生産能力倍増へ

日本曹達株式会社は、主力製品である半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」の生産能力を倍増すると発表しました。千葉工場（千葉県市原市）に25億円を投じ、2024年度下期に増強工事を完了させる計画です。

この増強は、近年の3D-NANDフラッシュメモリや車載半導体市場の急成長に対応するためです。通信技術の進化や自動車のEV化・自動運転化の進展に伴い、これらの半導体需要は今後ますます拡大すると予想されています。そのため、フォトレジスト材料の供給能力増強が不可欠となっています。

日本曹達は、独自の「リビングアニオン重合技術」を用いて高品質なVPポリマーを製造しており、その品質と安定供給は、顧客であるフォトレジストメーカーから高い評価を得ています。分子量分散度が狭く、高品質なVPポリマーは、高度化する半導体製造のニーズに応えるものとして、市場で高い信頼性を誇ります。

今回の増強により、日本曹達は顧客への安定的な供給体制を確立するとともに、増加する需要にも柔軟に対応できる体制を整えます。

VPポリマーの特徴

高品質: リビングアニオン重合技術による高品質な製品で、半導体製造における高度な品質要求に応えます。
高需要: 3D-NAND型フラッシュメモリや車載用途など、市場の拡大が見込まれるKrFレジストに使用されます。
* 幅広いサポート: お客様のニーズに合わせた製品提案や技術・開発支援を提供しています。

日本曹達の戦略

日本曹達は、VPポリマーに加え、樹脂添加剤「NISSO-PB」や「液状1,2-SBS」などの機能性ポリマー事業を成長ドライバーと位置づけ、積極的な投資と研究開発を推進しています。今後も、お客様のニーズに応じた新しいポリマー材料の開発と提供に注力することで、持続的な成長を目指しています。

日本曹達について

1920年創立の日本曹達は、農業、医薬品、特殊化学品など幅広い分野で高機能・高付加価値の化学製品を提供しています。環境、安全、健康に配慮した事業活動を行い、社会貢献にも積極的に取り組んでいます。

今後の展望

今回の生産能力増強は、日本曹達の半導体材料事業における更なる成長戦略の一環です。今後、市場の変化に迅速に対応し、顧客のニーズを満たすことで、持続的な発展を遂げていくことが期待されます。 半導体業界の動向を注視し、今後も同社の動向をレポートしていきます。

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