新素材の実用化加速
2025-08-04 11:42:41

TopoLogic、NEDOのGX事業に採択され新素材の実用化を加速

TopoLogic、NEDOのGX事業に採択



TopoLogic株式会社は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(以下、NEDO)が実施している「GX分野のディープテック・スタートアップに対する実用化研究開発・量産化実証支援事業」において、第4回公募のSTSフェーズに見事採択されました。この支援を受けて、TopoLogicは環境に配慮した省電力磁気メモリ技術「TL-RAM™」の実用化を進めます。

TL-RAM™の特徴と利点



TL-RAM™は、トポロジカル物質の特性を活用した磁気メモリ技術です。この技術により、パソコンやスマートフォン、データセンターにおけるメモリ消費電力を最大90%削減が可能となるのです。さらに、この技術をデータセンターのプロセッサーやメモリチップに組み込むことで、全体の消費電力量を約50%も劇的に減少させることができます。

また、TL-RAM™は不揮発性を有し、長期間に渡って記憶情報を保持する特性も持っています。放射線下でも使用可能な強靭な環境耐性と優れた耐久性を兼ね備えており、まさに次世代のメモリソリューションとして注目される技術です。

環境保全と経済成長の両立



テクノロジーの進化は、経済成長と環境保全の両立に向けて欠かせない要素です。TL-RAM™は、電力の削減という形で温暖化ガスの排出を抑えることに寄与することが期待されています。特に、GX事業ではカーボンニュートラルや資源循環といったグローバルな経済社会課題の解決に向けてリスクを甘受しながら、革新的な技術の研究開発を支援することを目指しています。

TopoLogicのビジョン



TopoLogic株式会社は、トポロジカル物質の深い研究を通じて、産業界の様々な課題解決を志向するディープテック・スタートアップです。このトポロジカル物質は、従来とは異なる電子バンド構造を持ち、今までにない高度なエネルギー管理や省エネルギーを可能にします。2021年の設立以来、東京大学の中辻研究室と協力し、独自の技術開発や各企業との協業に努めてきました。

特に、トポロジカル物質を活用することにより、エネルギー問題への貢献が加速されると期待されています。次世代の半導体技術として注目されているこの分野で、TopoLogicは引き続きミッションを果たすべく全力を尽くします。

未来の展望と採用情報



私たちは、革新を追求し続ける中で、共に成長できる仲間を求めています。特に、半導体関連技術者や熱流束センサの事業推進を担える人材を積極的に募集しています。私たちのミッションに共感し、新しい世界を共に築く意欲のある方は、ぜひご応募ください。詳細はこちらからご覧いただけます。

TopoLogicが目指すのは、豊かさと持続可能性が両立した未来の実現。今後の動きにもぜひご注目ください。


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会社情報

会社名
TopoLogic株式会社
住所
東京都文京区本郷7-3-1東京大学アントレプレナープラザ703
電話番号
03-5990-9509

関連リンク

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