半導体製造に貢献する新技術、ナノ粒子分析サービスを開始

新たなナノ粒子分析技術の登場

半導体製造の工程において、品質管理の重要性がますます高まっています。特に、微細化が進む半導体技術では、ナノメートルサイズの微小粒子による不良が問題視されており、その対策が求められています。そのため、株式会社東レリサーチセンター（TRC）は、半導体製造用薬液中に含まれる不純物金属ナノ粒子の高感度分析を可能にする新たな受託分析サービスを始めました。

spICP-MS技術の導入

このサービスの核心には、「誘導結合プラズマ質量分析法（ICP-MS）」をもとにした「単一微小粒子分析法（spICP-MS）」があります。この手法は、試料中の金属ナノ粒子を一粒ずつ検出し、それぞれの粒子のサイズや濃度を同時に測定することができます。このような精度での分析は、より高純度な薬液の管理を可能にし、不良発生リスクを軽減します。

半導体製造の課題

半導体製造における薬液の純度管理は、歩留まりを確保するために欠かせません。微小な金属ナノ粒子が存在するだけで、デバイスの信頼性に影響を及ぼす可能性があります。たとえば、フォトレジストや溶剤などの薬液には、不純物として金属ナノ粒子が混入しやすく、これが断線や短絡の原因となることがあります。TRCの新技術は、この課題に強力に立ち向かうものです。

有効性の試験結果

TRCが分析を行った例として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（PGMEA）が挙げられます。この溶剤は半導体製造の過程で広く使われており、試験の結果、一般に「高純度」とされるPGMEAでも複数の金属ナノ粒子が存在することが確認されました。これは、薬液の純度をさらに高める必要性を示す重要な結果です。

特徴的な分析システム

TRCは、試料調製の際に使用する溶媒の純度を高め、装置の運用管理を徹底することで、spICP-MS技術の性能を最大限に引き出しました。これにより、高感度かつ安定した金属ナノ粒子の検出を実現しています。また、この手法は、樹脂中に含まれるナノ粒子の評価にも応用が可能で、新たな分析ニーズに対応することが期待されます。

未来の展望

AIやデータセンター向けの半導体製品需要の拡大を受け、半導体製造技術は今後も進化が続くことが予想されます。TRCの新しい分析サービスは、このニーズに応えるものとして、研究開発や量産工程などさまざまな場面での活用が期待されており、半導体業界全体のさらなる発展に寄与するでしょう。

TRCは「高度な技術で社会に貢献する」を基本理念に、さらなる技術の向上と様々な分析ニーズへの対応を進めていきます。これにより、半導体分野における生産性と信頼性の向上を図り、顧客の課題解決を目指します。

会社情報