リックス株式会社が次世代半導体向けの洗浄装置を開発
リックス株式会社は、次世代半導体向けのフラックス洗浄装置を開発し、現在特許を出願中です。この新しい洗浄装置は、特に近年進化している2.5次元および3次元実装技術に対応しており、フラックス洗浄に関する課題を解決するための革新的な機能を持っています。
開発背景
半導体業界は、AIやIoTなどのテクノロジーの進化に伴い、ますます高度な製造技術が求められています。特に2.5次元や3次元の実装技術は、高い集積度と性能を求める半導体において重要な役割を果たしています。これに伴い、複数の半導体チップをインターポーザーの中間基板経由で接続する需要が増加しており、これらの実装方法には非常に狭い隙間が形成されるため、従来の洗浄技術ではフラックス残渣を取り除くことが難しくなっています。
新開発フラックス洗浄装置の特徴
リックスの新型フラックス洗浄装置は、特に隙間がわずか数十ミクロンの部分でも、高い洗浄能力を持つことが特徴です。減圧機構を搭載することで、洗浄液が狭い隙間にも効率的に充填され、従来の技術では除去が困難だったフラックス残渣も効果的に洗浄可能です。この技術革新により、次世代半導体の生産性を向上させることが期待されています。
受注状況と今後の展望
現在、リックスは複数の大手半導体関連企業から次世代半導体製造工程向けのフラックス洗浄装置を受注し、納入を進めています。これにより、同社は九州における半導体産業の中核を担うだけでなく、世界的な半導体業界にも寄与し、技術のさらなる発展を目指しています。
リックス株式会社の概要
リックス株式会社は、1907年に創業し、長年にわたって産業機械や部品の製造・販売を行ってきました。鉄鋼、自動車、電子・半導体など幅広い業界に製品を提供しており、特にフラックス洗浄設備においては20年以上の専門知識を有しています。今後も、新たな技術開発を進め、産業界に貢献していく所存です。
会社情報
- - 企業名: リックス株式会社
- - 本社所在地: 福岡県福岡市博多区東比恵一丁目4番10号 S-GATE FIT 東比恵 5階
- - 代表者: 安井 卓(代表取締役社長執行役員)
- - 証券コード: 7525(東証プライム / 福証)
- - 公式サイト: リックス株式会社