DNPが開発した2ナノメートルEUVリソグラフィ用フォトマスクの革新技術

DNPが切り開く次世代半導体製造の未来

1. とどまることを知らない進化

大日本印刷株式会社（DNP）は、日本の半導体業界において重要な役割を担っています。その中でも特に注目されるのが、EUV（Extreme Ultra-Violet）リソグラフィ技術に関連する進化です。最近、DNPは2ナノメートル世代以降のロジック半導体向けフォトマスクにおいて、微細なパターンの解像に成功しました。半導体業界が進化する中で、この技術はますます重要になっているのです。

2. 微細化の挑戦

半導体製造においては、パターンの微細化が求められています。特に2ナノメートル世代のEUVリソグラフィでは、従来の3ナノメートル世代に比べて、パターンサイズを20%以上縮小する必要があります。この微細化には、形状の多様性も含まれ、単純な直線や矩形パターンだけでなく、複雑な曲線パターンも対応しなければなりません。DNPは、既存の3nm世代製造プロセスに基づいた改善を重ね、ついにこの高い要求に応えました。

3. 高NAの重要性

さらなる進展として、DNPは高開口数（High-Numerical Aperture: 高NA）に対応したフォトマスクの基本性能評価を完了しました。この高NA技術は、EUVリソグラフィの精度と加工精度を飛躍的に向上させます。DNPはこの新たな製造プロセスを確立し、従来の製品と一線を画す製品を市場に提供し始めています。

4. 注目される国際協力

DNPは、2024年にRapidus株式会社が参画する国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）のプロジェクトにも参加しています。これは、ポスト5G通信システムの基盤強化を目指す事業で、最先端ロジック半導体向けフォトマスク製造技術の実現に向けた重要なステップとなるでしょう。DNPは国際的な半導体産業と連携し、日本の技術力を世界に示しています。

5. 未来への展望

DNPは、2030年以降のさらなる進化を見据えています。2027年度には、2ナノメートル世代ロジック半導体向けの量産フォトマスクの供給を開始する計画です。また、ベルギーの国際研究機関imecとの協力により、1ナノメートル世代のフォトマスク製造技術の開発も進行中です。この取り組みは、将来の半導体産業のさらなる発展に寄与することでしょう。