EUVリソグラフィの最前線！最新微細化動向と課題解決技術を学ぶセミナー開催！

株式会社AndTechは、2024年7月31日に、EUVリソグラフィに関するオンラインセミナー「EUVリソグラフィにおける最新微細化動向とフォトマスクを中心とした課題・欠陥低減技術」を開催します。

本セミナーでは、半導体製造における最先端技術であるEUVリソグラフィの最新動向と、その中でも特に重要な役割を担うフォトマスクに焦点を当て、課題解決に向けた技術を紹介します。

第一人者である4名の講師陣が、それぞれ専門分野から最新の知見を共有します。

第1講では、兵庫県立大学渡邊健夫氏が、EUVリソグラフィ技術の基礎から、最新の動向、そして将来展望について解説します。特に、EUV光のさらなる短波長化の可能性や日本半導体復活へのシナリオについても言及する点は注目です。

第2講では、大日本印刷株式会社吉川真吾氏が、次世代EUV半導体プロセス向けフォトマスクの開発について、具体的な技術課題や製造工程などを詳しく説明します。

第3講では、レーザーテック株式会社宮井博基氏が、EUVマスク検査技術の重要性を解説。ブランクス製作からパターン形成、ペリクル適用後の検査の実施例を紹介することで、半導体製造における検査技術の現状と課題を理解できます。

第4講では、AGC株式会社羽根川博氏が、EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化に向けた取り組みについて、具体的な事例を交えながら解説します。

本セミナーは、半導体業界の技術者だけでなく、関連分野の研究者や学生にも役立つ内容となっています。最新の技術動向や今後の展望を理解することで、今後の研究開発や事業展開に役立てられるでしょう。

参加費は60,500円（税込）で、資料は電子版で配布されます。興味のある方は、AndTechのウェブサイトから詳細をご確認の上、お申し込みください。
AndTechが開催するEUVリソグラフィに関するセミナーは、半導体業界の技術者にとって非常に有益な内容であると感じました。特に、第一人者である講師陣がそれぞれの専門分野から最新の知見を共有してくれる点は魅力的です。

セミナーでは、EUVリソグラフィの基礎知識から、最新技術、今後の展望まで幅広く解説されるため、初心者から専門家まで、それぞれのレベルに合わせて学ぶことができます。

特に、日本半導体復活へのシナリオや次世代EUVマスクブランクスの開発といった、今後の半導体業界を左右するような重要なテーマについて言及される点は注目すべきです。

本セミナーに参加することで、EUVリソグラフィに関する最新の知識を習得し、今後の研究開発や事業展開に役立てることができるでしょう。また、第一人者である講師陣との質疑応答を通じて、より深い理解を得られることも期待できます。

半導体業界に関わる全ての人に、ぜひ参加をお勧めしたいセミナーです。