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次世代パワー半導体技術を語るセミナーに注目

2026年9月17日、NPO法人高周波・アナログ半導体ビジネス研究会が主催する「第84回アナログ技術トレンドセミナ」が開催されます。このセミナーには、Patentix株式会社の取締役CTOである松田慎平氏が登壇し、次世代のパワー半導体材料について深く掘り下げる予定です。

セミナーの背景

現在、日本の半導体産業は国家の成長戦略の一環として、2030年までに売上高15兆円を超える目標を掲げています。この目標を達成するためには、技術革新が欠かせません。特に、脱炭素社会の実現やエネルギー効率の向上に寄与する「ウルトラワイドバンドギャップ（UWBG）半導体」の開発が非常に重要な位置を占めています。

このような背景の中、松田CTOは「ルチル型二酸化ゲルマニウム（GeO2）」に焦点を当て、その技術的特長や将来性、さらには市場への早期実装に向けた戦略について詳しく解説します。

講演の内容

松田氏の講演テーマは、「新しいパワー半導体材料ルチル型二酸化ゲルマニウム：その特長と社会実装に向けた戦略について」です。このルチル型二酸化ゲルマニウムは次世代パワー半導体材料として、技術者や研究者から高い期待を寄せられている素材です。

セミナーは午後2時から始まり、松田氏の講演は14時05分から14時55分までの予定です。参加者は最新の半導体技術について深く学ぶ機会を得ることができます。

開催の詳細

セミナーの開催日時は2026年9月17日、14時から17時まで。会場は京都テルサの西館3階にある第2会議室で、オンラインで参加できるWeb（Zoom）形式のハイブリッド開催となります。また、17時30分からは参加者同士の交流会も予定されています。

参加費用は、HAB研会員は無料、非会員は5,000円、協賛学会員は3,000円。交流会に参加する場合は2,000円が必要です。参加希望者は、2026年9月10日正午までにHAB研究会事務局にメールで申し込む必要があります。

このセミナーは、半導体業界のトレンドや新しい技術に興味がある方にとって、非常に有益な機会となるでしょう。半導体の未来を切り開く松田氏の講演をお見逃しなく！

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