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EUVリソグラフィ最新技術セミナーのご紹介

2025年8月26日(火)、株式会社AndTechが主催するオンラインセミナー「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUVへの将来展望」が開催されます。今回のセミナーでは、EUVリソグラフィの第一人者である講師陣が、次世代半導体技術の鍵を握るEUVリソグラフィの最前線について詳しく解説します。

セミナー概要

開催日時

• - 日付：2025年8月26日(火)
• - 時間：10:45〜16:30
• - 開催形式：ZoomによるWEB配信
• - 参加費：60,500円（税込）
• - 詳細情報： AndTechセミナー

セミナープログラム

このセミナーは、計4つの部構成で行われます。それぞれの部では、EUVリソグラフィに関連する様々なテーマが専門家によって取り扱われます。

1. Beyond EUVへの将来展望 - 講師：渡邊健夫氏（兵庫県立大学特任教授）
- 半導体業界の未来像とその課題について。
- 未来のEUV技術についての展望や技術課題を紹介。

2. EUVリソグラフィの基礎とレジスト材料の開発例 - 講師：工藤宏人氏（関西大学教授）
- フォトレジスト材料の変遷や最新の合成方法。EUVリソグラフィにおける材料の重要性を掘り下げます。

3. リソグラフィ用EUV光源研究の現状と将来展望 - 講師：溝口計氏（九州大学客員教授）
- 半導体微細加工の進展とEUV光源の役割について。
- 現在のEUV光源の開発動向や課題。

4. EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化に向けた取り組み - 講師：宇野俊之氏（AGC株式会社）
- 露光システム内のマスク技術とその量産化課題に焦点をあてます。

受講申し込みと注意事項

参加を希望される方は、事前に申し込みが必要です。申込後、詳細が記載されたURLが送付されます。

株式会社AndTechについて

AndTechは、広範な分野にわたる研究開発支援を行っている企業です。EUVリソグラフィのセミナー・講習会を通じて、技術者や研究者に最新情報を提供しています。多様なサービスを展開し、R&D領域におけるクライアントのニーズに応えるため、効果的な情報と支援を行っています。

お問い合わせ

本件に関する詳細や応募については、以下の連絡先までお問い合わせください。

• - 広報担当：青木
• - メール：pr●andtech.co.jp（●を@に変更）

EUVリソグラフィの技術を深く学べるこの機会をお見逃しなく、ぜひご参加ください。

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