半導体露光技術の未来を探る国際会議にNFTが登壇

半導体露光技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography + Patterning」への参加

2025年2月23日から27日まで、アメリカのカリフォルニア州サンノゼで開催された国際会議「SPIE Advanced Lithography + Patterning」に、株式会社ニューフレアテクノロジー（NFT）が参加しました。この会議は、光学やフォトニクスに関する技術を中心に研究者や企業が集まる重要なイベントです。

SPIEとは？

SPIEは国際光工学会を指し、各界の専門家が新しい研究成果を発表する場として毎年開催されます。特に露光技術やフォトマスクの製作に関する報告が多く、業界の最新トレンドを掴む上で欠かせない場となっています。参加者は、技術的な進展やトレンドについて意見交換を行い、ビジネスチャンスを見出す機会を得ます。

NFTの研究発表

今回、NFTはマルチ電子ビーム描画装置に焦点を当てた研究を4件発表しました。中でも、特に注目されたのは以下の論文です：

1. Paper 13427-14 - Multi-beam mask writer MBM-4000 for high-NA EUV era (Invited Paper)
- 発表者：松本宏
- 内容：新型のマルチ電子ビームマスクライターMBM-4000の特長を示し、高NAのEUV（極端紫外線）露光時代におけるその必要性について詳述しています。

2. Paper 13427-57 - Study on modeling of resist heating effect correction in multi-beam mask writers
- 発表者：野村春幸
- 内容：マルチビームマスクライターにおけるレジスト加熱効果の補正方法を研究し、その成果について詳細に考察しています。

3. Paper 13426-144 - Characterization of pattern fidelity evaluation using sine wave patterns in electron multi-beam writing
- 発表者：佐々木信一
- 内容：電子多ビーム描画におけるパターン忠実性の評価手法を、正弦波パターンを用いて実施し、結果を解析しています。

これらの発表を通じて、NFTは最新の半導体露光技術に関する知見を広め、業界への影響力を強化しています。参加者は新しい技術の議論を通じて、今後の開発に向けたインスピレーションを得ることができました。

まとめ

国際会議「SPIE Advanced Lithography + Patterning」は、半導体業界における重要な技術交流の場であり、NFTの発表が注目を集めました。このような情報を通じて、今後の半導体技術の進展が期待されます。NFTの取り組みや最新の研究成果が業界にどのような影響を与えるのか、今後の展開から目が離せません。