最先端リソグラフィ技術による新たな可能性
2025年1月24日、株式会社AndTechが主催するオンラインセミナー「EUVリソグラフィ、EUVレジストおよび最先端リソグラフィ技術の最新開発動向」が開催されます。このセミナーでは、半導体技術の最前線に立つ第一人者から、リソグラフィ技術の基礎や最新動向を学ぶことができます。
セミナー概要
このセミナーの開催日時は、2025年1月24日(金)の10:30から16:30までです。参加費は49,500円(税込)で、資料は電子形式で配布されます。Zoomを利用したライブ配信形式で行われるため、世界中どこからでも参加可能です。詳細な申し込みは、
こちらから確認できます。
講師
本セミナーの講師は、大阪大学の招聘教授である遠藤政孝氏です。彼はリソグラフィ技術の専門家として知られており、最新技術の紹介を通じて参加者に深い知識を提供することを目指しています。
学べる内容
このセミナーでは、以下のようなテーマが取り上げられます。
- - EUVリソグラフィの最新開発動向
- - EUVレジストの現在と課題
- - ダブル/マルチパターニング技術
- - DSAリソグラフィやナノインプリントリソグラフィの最新技術
- - リソグラフィ技術とレジスト材料のビジネス動向
リソグラフィ技術が新しいデバイス開発にどう寄与しているのか、そのビジネス動向についても解説します。特に、ユーザーのニーズに応じた解析とアプローチが強調される予定です。
最新技術の重要性
半導体業界は日々進化を遂げ、高集積化が進む中で従来の技術では対応できなくなっています。これを解決するために、リソグラフィ技術の進展が不可欠です。例えば、EUVリソグラフィ技術は微細加工技術の新たな選択肢として注目を集めており、精度と効率性を向上させるための要素技術が次々と登場しています。
AndTechの役割
株式会社AndTechは化学、素材、エレクトロニクスなどのさまざまな分野で研究開発支援サービスを提供しており、技術講習会やセミナーを通じて業界のニーズに応えています。広範な業界で実践される最新技術を学ぶことができる場は、技術者や研究者にとって非常に魅力的です。
今後の展望
本セミナーを通じて参加者は、最先端のリソグラフィ技術の基礎から最新の発展までの知識を習得し、今後の技術課題に対する解決策を見出すことが期待されます。技術や市場のトレンドを掴むことは、これからのビジネス戦略において重要な要素となるでしょう。
参加申し込みは早めに行うことをお勧めします。ビジネスの最前線で活躍するための貴重な機会をお見逃しなく!