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ニューフレアテクノロジー、ホトマスク展に参加！

概要

2026年4月9日と10日の両日、神奈川県の横浜市にあるパシフィコ横浜アネックスホールで開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition」に、ニューフレアテクノロジー（NFT）が出展します。この展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する重要な国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」と同時に行われ、多くの業界関係者や技術者が集まります。

出展製品

何を発表するのかというと、主に以下の3つの製品が注目されます：
1. MBM™-4000：マルチ電子ビームマスク描画装置。A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応。
2. NPI-8000シリーズ：10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを、透過反射同時検査により60分以下の高速で実現します。
3. 製品ロードマップ：今後の技術進展と計画を示す資料を用意。これにより、参加者はニューフレアテクノロジーが目指す未来の姿を理解することができます。

知識の融合

ニューフレアテクノロジーは、電子ビームマスク描画装置に必要な電子技術と、マスク検査装置に必要な光学技術の両方の専門知識を有しています。これにより、同社は技術的シナジーを活かし、今後も進化を続けるこの分野での最先端技術の開発に力を入れていきます。

日程と会場

展示会は以下の日程で開催されます：

• - 4月9日（木）：10:00～17:00
• - 4月10日（金）：10:00～16:00

ブース番号は31です。

参加の意義

「Photomask Japan 2026」は、業界関係者や学術分野の専門家との貴重なネットワーキングの場であり、最新の技術動向や市場の方向性を理解する機会でもあります。ニューフレアテクノロジーの技術者が直接、来場者の質問に答えることで、より深い理解を促進します。

この機会にぜひ、ニューフレアテクノロジーの最新技術をご体感ください。

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