最新技術を学ぶ！PFASフリー化に向けたレジスト材料講座

2025年6月24日、株式会社AndTechはオンラインセミナーを開催します。この講座では、レジスト材料の基礎から、微細化・高解像度化に向けた応用技術、さらにはPFASフリーに向けたリソグラフィ材料の開発動向について詳しく学べる貴重な機会です。

セミナーの概要

本セミナーのテーマは「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」。参加費は49,500円（税込）で、電子資料が含まれます。Zoomを通じて参画でき、都合の良い場所から受講できます。

セミナーは二部構成になっており、第1部では、鴨志田洋一氏がレジスト材料の基礎とその発展史について解説します。フォトリソグラフィの進化や、これに伴う技術革新、また日本の半導体産業における今後の展望について深く掘り下げます。

第2部では、仁川裕氏がPFASという化学物質の特性や、これに関連する規制の今後の動向について、お話しします。PFASは半導体材料の多くで使用されてきたが、環境負荷を考慮した代替品の開発が急務です。このセッションでは、どのように代替品を見つけ、実用化していくのかに焦点を当てます。

知識を得る意義

半導体技術の高度化に伴い、レジスト材料の改良が求められています。さまざまな波長の光を用いた露光方法や、それに適したレジストの開発が進む中、PFASフリーの材料がいかに重要かを理解することが、業界の未来を見据える上で欠かせません。本セミナーでは、具体的な技術課題への理解を深めることができます。

講師陣は、実務経験が豊富で学会活動にも精通した専門家たちです。この機会に、最新の基礎技術とトレンドを押さえ、未来の技術開発の指針を見つけることができるでしょう。

参加方法

興味のある方は、AndTechの公式サイトよりセミナーの申し込みを行ってください。詳細については、下記のURLをご参照ください。
セミナー参加申込はこちら

最大のPRポイントは、講師陣の豊富な経験によって提供される実例や事例分析です。レジスト材料及びリソグラフィ技術の全般、さらには半導体産業の現状と将来の方向性について、深く理解できる機会です。興味のある業界の方々要注目のセミナーです！