ダルトンの展示会出展
2025-11-26 13:40:04

ダルトンが『SEMICON Japan 2025』に出展、先進的な半導体製造技術を展示

ダルトンが『SEMICON Japan 2025』に出展



株式会社ダルトンは、半導体関連の国際展示会『SEMICON Japan 2025』に参加します。この展示会は2025年12月17日(水)から19日(金)にかけて、東京ビッグサイトにて開催され、半導体製造技術や装置が集結する国内最大級のイベントです。ダルトンは、蒸気2流体洗浄装置やオゾン水生成装置といった最新技術を展示し、業界関係者にその特長を直接体験してもらえる機会を提供します。

ダルトンの歴史と事業内容



ダルトンは1990年から半導体製造装置事業を開始しました。この事業の出発点は、従来のドラフトチャンバー製造技術をウエハーの研究に応用しようとするアイデアです。以来、ウエハーや治具、用途に応じた多彩な製造工程に対応しており、剥離、洗浄、乾燥、メッキ、溶剤再生などの多岐にわたるプロセスを網羅しています。また、研究開発向けから量産機まで、多様なニーズに柔軟に応じた製品を提供しています。

今回の展示会では、環境負荷の低減をテーマにした製品が中心となります。洗浄プロセスにおいて薬液を使わず、蒸気やオゾン水を使用した装置を多数紹介します。これは、持続可能な製造プロセスを可能にし、今後の半導体産業における課題解決にも貢献します。

主な展示製品



蒸気2流体洗浄装置


この装置は、薬液の代わりに水蒸気と水を超音速で噴射して異物を除去します。水滴が対象物に衝突することでキャビテーションが生成され、これにより強力な衝撃波が生じ、異物が効果的に除去されます。主に異物除去や研磨後の洗浄、メタルリフトオフ、レジスト剥離に使用されます。出展社セミナーでは、この洗浄技術について詳しく解説します。

オゾン水生成装置


オゾン水生成装置は、薬液の代わりにオゾン水を生成し、洗浄プロセスに使用できる装置です。循環方式により、水の使用量が極めて少なく、約1分でオゾン水を生成できる迅速さが特長です。このオゾン水を利用した精密洗浄は、環境にも優しい技術です。

FOUP洗浄装置


FOUP洗浄装置は、ウエハーの保管や輸送に使用されるFOUP(Front Opening Unified Pod)を洗浄します。独自の処理によって内部の不要物を取り除くことが可能で、しかも瞬間加熱式を採用しており、迅速な洗浄が実現されています。こちらも洗浄液は純水のみで、環境に配慮した仕様です。

まとめ



『SEMICON Japan 2025』は半導体関連業界の最新技術に触れる貴重な場です。ダルトンは、先進的かつ環境に優しい半導体製造装置を通じて、業界の発展に寄与する姿勢を示しています。関心のある方は、ぜひ会場を訪れてみてください。出展セミナーへの参加もお忘れなく!


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会社情報

会社名
株式会社イトーキ
住所
東京都中央区日本橋2-5-1
電話番号

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