NTT-ATとEVGが共同開発した高屈折率樹脂によるAR光学デバイス性能向上

NTT-ATとEVG、AR光学デバイス開発の新たな挑戦

NTTアドバンステクノロジ株式会社（NTT-AT）と、オーストリアに本社を持つナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置のリーダー企業、EVグループ（EVG）が手を組み、高屈折率樹脂とEVGの「SmartNIL®」プロセスの連携によるAR光学デバイスの新しい製造方法を実証しました。これは、近年急速に拡大しているARグラス市場における技術革新を象徴するものであり、今後の展開に大きな期待が寄せられています。

1. AR光学デバイス市場の背景

最近の世の中では、ARグラスをはじめとする光学デバイスの需要が急増しています。この市場で競争力を保つには、軽量で高画質なデバイスの開発が欠かせません。そのためには、光を正確に制御できる回折格子やメタ光学素子の量産技術を確立する必要がありますが、これには高い光学性能を維持しつつ低コストでの製造が求められます。

■ 光学デバイスに必要な条件

- 高いパターン忠実性
- 連続転写性
- 耐環境性

これらの条件を満たすことが、今後のAR光学デバイスの成功に直結します。高精度なナノインプリント装置と適合する高屈折率樹脂の開発は、その解決の鍵となるのです。

2. 評価の概要と成果

今回の共同評価では、NTT-ATが開発した高屈折率樹脂「NH700シリーズ」の一部である「NH762」を利用し、EVGの先進的な転写技術「SmartNIL」プロセスとの適合性を検証しました。その結果、AR光学デバイスに必須のパターン忠実性が高く、連続した転写プロセスにおいても安定性が確認されました。

特に重要なポイントは、350nmのラインとスペース構造の高精度な転写が行えたこと、さらに、環境試験の後でも構造変化がほとんど見られなかったことです。この実績により、AR向け光導波路の材料として「NH762」を用いることが実用的であることが示されました。

3. お客様にとっての価値

AR光学デバイスの開発には、材料の選定や信頼性の試験、量産適合性の検証に長い時間がかかる場合があります。そこで、今回の成果により、材料評価と量産プロセスが事前に検証済みの状態で提供できるため、デバイスメーカーは初期のプロセス開発にかかる時間を大幅に短縮し、スムーズに量産へと移行可能になります。

4. 展示会での成果発表

今回の共同研究成果は、「第27回中国国際オプトエレクトロニクス博覧会（CIOE 2026）」に出展され、その詳細はホワイトペーパーとしても公開されます。展示会は2026年9月9日から11日まで、深圳国際コンベンションセンターで開催される予定です。

出展情報はこちらから確認できます。

5. 今後の展開

NTT-ATとEVGは、今後も高屈折率樹脂「NH700シリーズ」をベースにしたさらなる研究開発を進める計画です。AR光学デバイスだけでなく、次世代メタ光学素子やLiDAR、センシングデバイスなど多様な応用が見込まれています。

6. NTTアドバンステクノロジ株式会社とEVGについて

NTT-ATは1976年の設立以来、NTTグループ内で中心的な技術企業として、最先端の技術を取り入れ、顧客の課題解決に努めています。一方、EVGは半導体の設計と集積化の未来を見据えた革新的なプロセスソリューションを提供しています。どちらの企業も、高度な技術で顧客の新プロジェクトや製品化をサポートし続けています。

最新の情報や詳しい技術内容については、それぞれの公式ウェブサイトで確認できます。